洁净室具有风量大，空调系统风压高，运行时间长等特点，故其能耗比一般建筑为大。因此，在设计中应考虑节能措施。一、能耗特点国外对普通办公楼与一般洁净厂房的风量作比较，其大致数值见表27.10-1。普通民用空调（如办公楼、旅馆）单位建筑面积的冷负荷在100~130w，而半导体厂房的冷负荷可能---500~1000w/㎡。从符合因数来看：微电子生产车间的空调能耗中工艺而设备负荷、输送负荷以及新风负荷主体，电子厂洁净工程，一般均占90％以上，图27.10-1为某芯片（φ300mm）生产厂房冷负荷的成分组成。表27.10-2还给出了不同级别洁净室的负荷组成供参考。另一个特点是：从全年来看所有季节均存在冷却负荷，即其供冷季节长，这也是从整体上讲其能耗大的原因。图27.10-2即芯片生产厂房前工艺车间全年冷负荷一例。
同时设施、环境等是影响医院评定工作的重要因素(factor)，因此许多非医院之所以要进行手术室的规划与实施，直接的原因便是通过审批小组的要求尽快实现医院的目标(cause)。
相对湿度在50%时易生锈，相反，电子厂洁净工程，有些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，但并不是好事，因为有可能阻止进一步的氧化反应，影响效率。洁净室的发展与现代工业技术密切联系在一起。湿度的控制也不是越低越好。当相对湿度小于30%时，静电荷可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。较低的湿度容易造成电荷的积累并成为潜在的具有破坏性的静电释放源。当相对湿度超过50%时，静电荷开始迅速消散。高湿度实际上减小了静电荷积累，这是人们希望的结果。洁净室的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。
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